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深圳市福英達(dá)工業(yè)技術(shù)有限公司
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通過添加納米強(qiáng)化鎢(W)改善Au/Ni/Cu焊盤上Sn57.6Bi0.4Ag焊點(diǎn)的時(shí)效和電遷移力學(xué)性能-深圳市福英達(dá)

2023-03-08

深圳市福英達(dá)

通過添加納米強(qiáng)化鎢(W)改善Au/Ni/Cu焊盤上Sn57.6Bi0.4Ag焊點(diǎn)的時(shí)效和電遷移力學(xué)性能


在Au/Ni/Cu焊盤焊料回流過程中(Au,Ni)(Sn,Bi)4 顆粒的形成

在形成焊點(diǎn)時(shí),Au/Ni/Cu焊盤中的整個(gè)Au層迅速溶解到熔融焊料中,導(dǎo)致在回流焊點(diǎn)的焊料區(qū)域內(nèi)形成大量的(Au,Ni)(Sn,Bi)4 金屬間化合物(IMC)顆粒?;亓鹘宇^的界面IMC區(qū)均為(Ni,Cu)3Sn4 薄層。


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圖1.原理圖:(a)用于界面反應(yīng)分析的襯底和(b)用于電遷移測試的焊料互連(符號T指厚度,標(biāo)有符號e?的箭頭表示電子流方向)。


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圖2. Au/Ni/Cu襯底上回流(a和b) Sn57.6Bi0.4Ag和(c和d) Sn57.6Bi0.4Ag- w焊點(diǎn)的界面微觀結(jié)構(gòu)和焊料凸點(diǎn)。

焊點(diǎn)在老化過程中發(fā)生脆性斷裂

在時(shí)效過程中,由于界面層(Au,Ni)(Sn,Bi) 4imc的形成而發(fā)生脆性斷裂。隨著Au向界面遷移,Au在結(jié)合部聚集,形成厚層(Au,Ni)(Sn,Bi)4 IMC。這種積累導(dǎo)致斷裂路徑向界面IMC區(qū)域轉(zhuǎn)移,轉(zhuǎn)變?yōu)榇嘈詳嗔?,并由于Au脆化導(dǎo)致接頭強(qiáng)度惡化。(Au,Ni)(Sn,Bi)4在接頭界面處的積累導(dǎo)致接頭強(qiáng)度嚴(yán)重退化,可靠性問題嚴(yán)重。斷裂路徑向界面IMC區(qū)轉(zhuǎn)移,并向脆性斷裂特征轉(zhuǎn)變。因此,在時(shí)效過程中,監(jiān)測和控制金屬間化合物的形成是很重要的,這些化合物會(huì)導(dǎo)致脆性斷裂和接頭強(qiáng)度的退化。

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圖3. Au/Ni/Cu襯底上(a、c、e) Sn57.6Bi0.4Ag和(b、d、f) Sn57.6Bi0.4Ag- w焊點(diǎn)在100℃等溫時(shí)效(a、b) 240 h、(c、d) 480 h和(e、f) 720 h后的界面組織。

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圖4. 不同時(shí)效時(shí)間下釬料與Au/Ni/Cu襯底界面imc的平均厚度。


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圖5. EDX線掃描顯微照片顯示了在100°C時(shí)效720 h后SnBiAg-W/Au/Ni/Cu界面的元素分布。


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圖6. Au/Ni/Cu焊盤上SnBiAg和SnBiAg- w焊點(diǎn)在不同時(shí)效時(shí)間后的球剪切強(qiáng)度


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圖7. Au/Ni/Cu焊盤上回流(a和b) SnBiAg焊點(diǎn)和(c和d) SnBiAg- w焊點(diǎn)的剪切斷口放大視圖。


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圖8. Au/Ni/Cu焊盤上(a和b) SnBiAg和(c和d) SnBiAg- w焊點(diǎn)在100°c時(shí)效720 h后的剪切斷口放大視圖,(e)區(qū)域a和(f)區(qū)域b的高放大圖像。


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圖9. (a)焊料凸點(diǎn)區(qū)域的電流密度和(b)溫度分布。


W納米顆粒的加入影響釬料合金的微觀結(jié)構(gòu)

W納米顆粒的加入細(xì)化了釬料合金的微觀結(jié)構(gòu),產(chǎn)生了細(xì)化強(qiáng)化機(jī)制。它降低了富sn和富bi交替層間的平均界面間距,對釬料基體有顯著的細(xì)化作用。W納米顆粒的加入也縮短了分散顆粒之間的平均距離,提高了力學(xué)性能。降低釬料基體層間相間距對釬料基體有顯著的細(xì)化效果。這種細(xì)化效應(yīng)是由于W納米顆粒的加入導(dǎo)致凝固過程中形核位點(diǎn)數(shù)量的增加。


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圖10. (a) W納米顆粒的SEM圖像和(b) XRD譜。

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圖11. (a, b, c) SnBiAg和(d, e, f) SnBiAg- w焊料在0.5×104 a /cm2、100℃下電遷移720 h后,微觀結(jié)構(gòu)互連,陽極和陰極界面放大圖像。


在回流焊過程中,Au/Ni/Cu焊盤中的整個(gè)Au層迅速溶解到熔融焊料中,在回流焊接頭的焊料區(qū)域內(nèi)形成大量的(Au,Ni)(Sn,Bi)4金屬間化合物(IMC)顆粒?;亓鹘宇^的界面IMC區(qū)均為(Ni,Cu)3Sn4薄層。W納米顆粒的加入提高了回流接頭的強(qiáng)度。

 

在Au/Ni/Cu焊盤上添加納米鎢(W)增強(qiáng)劑對Sn57.6Bi0.4Ag焊點(diǎn)具有改善作用。W納米顆粒的加入成功地提高了釬料合金的力學(xué)性能,顯微硬度得到提高。

參考文獻(xiàn)

Yi Li, Kaiming Luo , Adeline B.Y. Lim,  Zhong Chen, Fengshun Wu, Y.C. Chan(2016). Improving the mechanical performance of Sn57.6Bi0.4Ag solder joints on Au/Ni/Cu pads during aging and electromigration through the addition of tungsten (W) nanoparticle reinforcement. Materials Science & Engineering, A. Structural Materials: Properties, Misrostructure and Processing, vol. 291-303.

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